慶祝我公司雙面刷洗機研制成功
 2013年01月26日 |閱讀次數:1186

  2012年5月我公司開始研制雙面刷洗機。早期的濕法清洗不僅不能清除半導體晶片表面的亞微米粒子,而且對片子表面的破壞作用極為嚴重。而雙面刷洗機對清除亞微米粒子非常有效,而且不破壞硅片表面,清洗效果最好。本公司已在2012年12月成功研制出該設備并順利投入清洗市場。

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